Silicon Oxide Lapping Film SO 0.01 Micron Transparent คืออะไร?

Silicon Oxide Lapping Film SO 0.01 Micron Transparent คือแผ่นฟิล์มขัดระดับพิเศษที่มีความละเอียดสูงมากที่สุดในตลาด ด้วยค่าความละเอียดเพียง 0.01 ไมครอน เหมาะสำหรับงานที่ต้องการผิวสำเร็จที่เรียบเนียนในระดับนาโน เช่น การขัดเลนส์ออปติกส์ ชิ้นส่วนเซมิคอนดักเตอร์ หรือการเตรียมพื้นผิวสำหรับการตรวจสอบด้วยกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอน (SEM)

ฟิล์มรุ่นนี้เคลือบด้วย ผงขัด Silicon Oxide (SiO₂) บนแผ่นฟิล์มโพลีเอสเตอร์ แบบใส (Transparent) ซึ่งมีความเรียบสูง ช่วยให้สามารถควบคุมแรงขัดและพื้นผิวได้อย่างแม่นยำที่สุด เหมาะสำหรับห้องแล็บวิจัย หน่วยงานด้านอิเล็กทรอนิกส์ ออปติกส์ และนาโนเทคโนโลยี

คุณสมบัติของ Silicon Oxide Lapping Film SO 0.01 Micron Transparent

✅ ความละเอียดสูงสุด 0.01 ไมครอน – ระดับนาโนเมตร ให้ผิวเรียบพิเศษ
✅ ผงขัด Silicon Oxide บริสุทธิ์ – ให้แรงขัดนุ่มนวล ไม่ทำลายผิวชิ้นงาน
✅ แผ่นฟิล์มโปร่งใส (Transparent) – เหมาะสำหรับการใช้งานกับเครื่องตรวจสอบด้วยแสง
✅ พื้นผิวสม่ำเสมอสูงมาก – ลดความคลาดเคลื่อนในงานวิเคราะห์
✅ ใช้งานได้แบบแห้งหรือเปียก – เหมาะกับกระบวนการควบคุมคุณภาพระดับสูง
✅ ไม่มีการทิ้งร่องรอยหรืออนุภาคหยาบบนพื้นผิววัสดุ

การใช้งานของ Silicon Oxide Lapping Film SO 0.01 Micron Transparent

• ขัดพื้นผิวก่อนการตรวจสอบด้วยกล้อง SEM หรือ AFM

• เตรียมพื้นผิวชิ้นส่วนไมโครชิป เซมิคอนดักเตอร์

• ขัดเลนส์ออปติกส์ เลนส์กล้อง และแผ่นแก้วคุณภาพสูง

• ใช้ในการผลิตวัสดุนาโน หรือเคลือบผิวฟังก์ชันพิเศษ

• ขัดวัสดุเปราะบางที่ต้องการผิวเรียบที่สุด เช่น ควอตซ์ หรือเซรามิกชนิดพิเศษ

• เหมาะสำหรับงานวิจัยและพัฒนาในอุตสาหกรรมไฮเทค

ทำไมควรเลือกใช้ Silicon Oxide Lapping Film SO 0.01 Micron Transparent?

สำหรับงานที่ต้องการ ความละเอียดสูงสุด และ ไม่สามารถยอมรับความคลาดเคลื่อนใดๆ ได้ ฟิล์มรุ่นนี้คือตัวเลือกอันดับหนึ่ง ด้วยความละเอียดเพียง 0.01 ไมครอน ผสานกับความเรียบของแผ่นฟิล์มและผง Silicon Oxide บริสุทธิ์ ผู้ใช้งานสามารถมั่นใจได้ว่าจะได้ผิวงานที่มีคุณภาพสูงที่สุด เหมาะสำหรับทั้งงานวิจัยระดับนาโนและกระบวนการผลิตที่ต้องการมาตรฐานสูงสุด

สรุปข้อดีและจุดเด่นของ Silicon Oxide Lapping Film SO 0.01 Micron Transparent

• ความละเอียดสูงระดับ 0.01 ไมครอน ให้ผิวงานเรียบแบบนาโน

• เคลือบด้วย Silicon Oxide ที่อ่อนโยนต่อผิววัสดุ

• แผ่นฟิล์มใส มองเห็นพื้นผิวระหว่างขัดได้ชัดเจน

• ใช้ได้ทั้งแบบแห้งและเปียก รองรับกระบวนการควบคุมคุณภาพ

• เหมาะกับงานออปติกส์ เซมิคอนดักเตอร์ และการตรวจสอบวัสดุขั้นสูง

• ผลลัพธ์สม่ำเสมอ เหมาะสำหรับงานวิจัยและพัฒนา

Specifications